Trocken aufgestellte Pumpe CPKN

Horizontale, quergeteilte Spiralgehäusepumpe in Prozessbauweise, mit Radialrad, einströmig, einstufig, nach ISO 2858 / ISO 5199, auch als Variante mit nasser Welle, konischem Dichtungsraum und / oder halboffenem Laufrad. ATEX-Ausführung erhältlich.

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Hauptanwendungen

Pumpe zum Fördern von aggressiven Flüssigkeiten in der chemischen und petrochemischen Industrie
Papierindustrie / Zellstoffindustrie
Meerwasserentsalzung / Umkehrosmose
Lebensmittelindustrie / Getränkeindustrie

Technische Daten

Maximale Fördermenge: 4800 m3/h
Maximale Förderhöhe: 275 m
Maximal zulässiger Betriebsdruck: 25 bar
Maximal zulässige Medientemperatur: 400 °C

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Vorteile

Energiesparender und umweltschonender Umgang mit Ressourcen durch optimierte hydraulische Eigenschaften mit bestem Wirkungsgrad und NPSH
Sinkende Investitionskosten, da gegebene Betriebspunkte durch kleinere Pumpengrößen erreicht werden können.
Niedrige Betriebskosten durch geringen Energieverbrauch, optimiertes Ersatzteilkonzept sowie servicefreundliches und Verschleiß minimierendes Design

Technische Daten

Funktion: Fördern
Verbindungsart: Flansch
Antriebskonzept: mit E-Antrieb
Maximale Fördermenge: 4800 m3/h
Minimale Fördermenge: 1 m3/h
Maximale Förderhöhe: 275 m
Minimale Förderhöhe: 2 m
Netzfrequenz: 50 Hz,
60 Hz
Netzspannung: 400 V,
460 V
Gehäusewerkstoff: EN-GJS-400-18-LT,
GP240GH+N/A216 GR WCB,
GX5CRNIMO19-11-2,
GX3CRNIMOCUN24-6-2-3/GX2CRNIMOCUN25-6-3-3/A9951B
Nenndruck: PN 25
Maximal zulässiger Betriebsdruck: 25 bar
Ansaugverhalten: normalsaugend
Maximal zulässige Medientemperatur: 400 °C
Minimal zulässige Medientemperatur: -40 °C